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6 条记录
⚙️
SCIP_INTEL // FAB EQUIPMENT MONITOR
制造设备监测中心
追踪国产半导体制造设备，监控受限设备与技术替代方案
收录设备
892
↑ 实时更新
国产设备
6
已验证量产
受限设备
156
实体清单
监控中
199
重点追踪
设备类型:
全部
刻蚀设备
薄膜沉积
光刻设备
涂胶显影
离子注入
CMP
热处理
受限等级:
全部
高风险
中风险
低风险
国产化率:
全部
国产化率>90%
国产化率>70%
⚙️
北方华创 NMC508 刻蚀机
北方华创 · 刻蚀设备
量产
风险: 高
工艺节点
7nm
产能
120wph
均匀性
±1.5%
¥2,800万
国产化率
85%
⚙️
中微 CCP 刻蚀机
中微公司 · 刻蚀设备
量产
风险: 中
工艺节点
5nm
均匀性
±1.5%
产能
140wph
¥3,200万
国产化率
90%
⚙️
拓荆 PECVD Pro
拓荆科技 · 薄膜沉积
量产
风险: 中
工艺节点
7nm
均匀性
±1%
产能
100wph
¥2,500万
国产化率
88%
⚙️
上海微 SSX600 光刻机
上海微电子 · 光刻设备
量产
风险: 低
分辨率
90nm
套刻精度
≤8nm
产能
60wph
¥1,500万
国产化率
95%
⚙️
芯源微 涂胶显影机
芯源微 · 涂胶显影
量产
风险: 低
产能
200wph
均匀性
±1%
套刻精度
≤3nm
¥800万
国产化率
92%
⚙️
拓荆 离子注入机
拓荆科技 · 离子注入
量产
风险: 中
能量范围
0.2-400keV
剂量精度
±0.5%
产能
80wph
¥1,200万
国产化率
87%